产品中心
产品分类
联系方式
产品描述
近年来，作为LCD(液晶显示)、PDP(等离子显示)等平面显示器的电极和配线材料的钼系合金靶越来越受到人们的关注。在TFT-LCD中，栅电极是一个关键部件，以前主要是用Cr／A1作为栅电极材料，随着平面显示器的大型化和高精度化，对材料的比阻抗要求越来越高，钼的比阻抗和膜应力仅为铬的1／2，同时，由于在蚀刻过程中会产生六价态Cr，对环境和健康有害，因此现在越来越多的公司改用Mo／A1作为栅电极材料，这样对Mo靶的需求也就越来越大。在钼靶的应用中，钼合金的研究也越来越多，为进一步提高纯钼在耐腐蚀性(变色)和密着性(膜的剥离)，在钼中添加V、Nb、W、Ta，则会使比电阻、应力及耐蚀性等各种性能更好。
由于使用了热等静压技术，我公司生产的10%含量钼铌平面靶材和旋转靶材密度可达9.7g/cm3 以上，其组织均匀性及纯度等指标均受到了客户好评。
我公司使用真空烧结和热等静压方式制造的钼铌靶材，铌含量可为5%或10%。产品具有良好的致密性和均匀度，已通过国外知名厂家认证。
尺寸规格
钼铌平面靶 10X112x210
钼铌旋转靶 φ151xφ135X750
用途
▲于TFT-LCD行业镀膜所用靶材
在线咨询