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磁控溅射靶材
溅射是一种先进的薄膜材料制备技术,它利用离子源产生的离子,在真空中加速聚集成高速离子流,轰击固体表面,离子和固体表面的原子发生动能交换,使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面,从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。钨钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜,这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD(ThinFilmTransitor
2017-11-21
MOVCD机钨钼零件
金属有机物化学气相沉积(简称MOCVD)是技术生长III-V族，II-VI族化合物及合金的薄层单晶的主要方法。用氢气或氮气作为载气，通入液体中携带出蒸汽，与V族的氢化物(如NH3、PH3、AsH3)混合，通入反应室，在加热的衬底表面发生反应，外延生长化合物晶体薄膜。
医疗用辐射屏蔽材料
伽玛刀即伽马射线立体定向放射治疗系统，其主要结构为布满准直器的半球状头盔，其中放射出钴60产生的高剂量离子射线即伽马射线。通过几何聚焦方式，通过立体定向，将射线集中于患者体内需要施治的目标-靶点。
料架
料架用于高温退火炉及烧结炉中放置及转运需处理的工件，对制作料架材料高温强度有很高要求，为了增强材料抗蠕变性能及高温强度，爱科麦可以制作钼镧合金以及钼锆钛合金料架。
紧固件
洛阳爱科麦可以为您生产英制或公制的钨或钼螺丝或螺母。同时可为您制作钨或钼铆钉、卡扣、垫圈、隔环等紧固元件。
离子注入机用离子源
离子注入是现代集成电路制造中的一种非常重要的技术，其利用离子注入机实现半导体的掺杂，即使用钨丝作为阴极发射电子轰击含有特定的杂质元素的气体分子，产生电离的特定杂质原子经静电场加速后打到硅单晶圆片表面，并打入半导体内部，改变导电特性并最终形成晶体管结构。
